标题 |
Fabrication of MOS Capacitors by Wet Oxidation of p-Type 4H-SiC Preamorphized by Nitrogen Ion Implantation
氮离子注入预非晶p型4H-SiC湿式氧化制备MOS电容器
相关领域
材料科学
电容器
离子注入
制作
氮气
氧化物
无定形固体
图层(电子)
光电子学
离子
纳米技术
电压
冶金
电气工程
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医学
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期刊:Materials science forum 作者:Yasuto Hijikata; Sadafumi Yoshida; P. Lariccia; Antonella Poggi; S. Solmi; et al 出版日期:2007-09-15 |
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