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 Highly Stable HfO2 Memristors through van der Waals Electrode Lamination and Delamination 通过范德华电极分层和分层实现高稳定性HfO2忆阻器
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期刊：Nano Letters 作者：Tong Wei; Kun Wei; Xiangzhe Zhang; Shuimei Ding; Zheyi Lu; et al 出版日期：2023-10-20 |
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