Influence of sputtering parameters on the crystallinity and crystal orientation of AlN layers deposited by RF sputtering using the AlN target

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标题	Influence of sputtering parameters on the crystallinity and crystal orientation of AlN layers deposited by RF sputtering using the AlN target 溅射参数对AlN靶射频溅射沉积AlN层结晶度和晶向的影响相关领域溅射结晶度氩氮化物蓝宝石材料科学氮气射频功率传输氮化铟 Crystal（编程语言）分析化学（期刊）铝射频功率放大器光电子学薄膜化学复合材料光学图层（电子）纳米技术放大器程序设计语言有机化学激光器 CMOS芯片色谱法计算机科学物理
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2008.09.046
DOI	10.1016/j.jcrysgro.2008.09.046 doi
求助人	风中的夕阳在 2025-01-14 21:32:24 发布自美国，悬赏 10 积分
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