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High contact angle embedded barrier layer materials for next-generation 193 immersion lithography
用于下一代193浸入式微影的高接触角嵌入式阻挡层材料
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期刊: 作者:Joshua A. Kaitz; Mingqi Li; Ryan Lee; Amy Kwok; Thomas Cardolaccia; et al 出版日期:2021-02-22 |
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