Plasma processing of low-k dielectrics

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标题	Plasma processing of low-k dielectrics 低k电介质的等离子体处理相关领域电介质等离子体等离子体处理材料科学抵抗工程物理材料加工降级（电信）低介电常数遮罩（插图）光电子学纳米技术计算机科学工艺工程工程类物理电信艺术图层（电子）量子力学视觉艺术
网址	https://doi.org/10.1063/1.4765297
DOI	10.1063/1.4765297 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：Mikhaı̈l R. Baklanov; Jean‐François de Marneffe; Denis Shamiryan; Adam Urbanowicz; Hua‐Tian Shi; et al 出版日期：2013-01-22
求助人	溜溜在 2025-02-24 10:14:02 发布自广东，悬赏 10 积分
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