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 Investigation of ultrathin yttrium silicide for NMOS source/drain contacts 用于NMOS源/漏接触的超薄硅化钇的研究
相关领域
材料科学
硅化物
透射电子显微镜
钇
锡
接触电阻
NMOS逻辑
分析化学（期刊）
二次离子质谱法
硅
图层（电子）
纳米技术
冶金
离子
氧化物
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化学
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色谱法
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期刊：Journal of Materials Science Materials in Electronics 作者：Xianglie Sun; Jing Xu; Jianfeng Gao; Jinbiao Liu; Yan‐Ping He; et al 出版日期：2023-05-01 |
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哐哐哐
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