标题 |
![]() 通过缺陷工程在多晶二维MoS2中实现电子突触用于神经形态计算
相关领域
神经形态工程学
材料科学
光电子学
神经促进
长时程增强
纳米技术
计算机科学
人工神经网络
生物化学
化学
受体
机器学习
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces 作者:Eunho Lee; Junyoung Kim; Juhong Park; Jinwoo Hwang; Hyoik Jang; et al 出版日期:2023-03-15 |
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|