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Revealing the mechanism of interfacial adhesion enhancement between the SiO2 film and the GaAs substrate via plasma pre-treatments
等离子体预处理增强SiO2薄膜与GaAs衬底界面结合的机理
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网址
https://doi.org/10.1116/6.0003412
DOI
10.1116/6.0003412 doi
其它 期刊：Journal of vacuum science & technology
作者：Zhiwei He; Chanjuan Liu; Jiuru Gao; Zichao Li; Ke Xu; et al
出版日期：2024-02-29
求助人
宙斯 在 2024-11-25 11:04:24 发布自日本，悬赏 10 积分
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