| 标题 |
 A novel approach for the patterning and high-volume production of sub-40-nm gates 亚40nm栅极图案化和大批量生产的新方法
相关领域
抵抗
逻辑门
材料科学
无定形固体
图层（电子）
电子工程
纳米技术
光电子学
工程类
化学
结晶学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成，仅限求助人下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
爱静静
我是站长才怪
带头大哥
Billy
cocolu
加菲丰丰
田様
Leonardi
shinysparrow
寻道图强
双黄
香蕉觅云
spark810
yangguang2000
dawnfrf
tuanheqi
Arjun
苹果丑
SciGPT
卓头OvQ
皖公网安备34019202002308
