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 Recent Advances in Plasma Etching for Micro and Nano Fabrications of Silicon-based Materials: A Review 等离子体刻蚀在硅基材料微纳制备中的研究进展
相关领域
材料科学
等离子体刻蚀
纳米-
纳米技术
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硅
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工程类
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图层（电子）
物理
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期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Chaojiang Li; Yuxin Yang; R.T. Qu; Xun Cao; Ye Liu; et al 出版日期：2024-01-01 |
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