Polymer Films' Residual Stress Attenuation from the Supramolecular Complexation with Ultra‐Small Nanoparticles for High Resolution Nanoimprint Lithography

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标题	Polymer Films' Residual Stress Attenuation from the Supramolecular Complexation with Ultra‐Small Nanoparticles for High Resolution Nanoimprint Lithography 超小纳米粒子超分子络合对高分辨率纳米压印光刻聚合物薄膜残余应力衰减的影响
网址	https://doi.org/10.1002/anie.202416759
DOI	10.1002/anie.202416759 doi
其它	期刊：Angewandte Chemie International Edition 作者：Jiadong Chen; Shenglin Yao; Bin Wang; Qiang Yu; Binghui Xue; Panchao Yin 出版日期：2024
求助人	towerman 在 2024-12-24 15:05:45 发布自湖南，悬赏 10 积分
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