标题 |
Comparative evaluation of indirectly heated cathode DC ion source and inductively coupled plasma RF ion source for high current ion implanter
大电流离子注入机间接加热阴极直流离子源与电感耦合等离子体射频离子源的对比评价
相关领域
材料科学
离子源
离子束沉积
离子注入
电感耦合等离子体质谱法
分析化学(期刊)
感应耦合等离子体
二次离子质谱法
薄脆饼
离子
离子流
离子束
离子枪
质谱法
等离子体
光电子学
化学
物理
量子力学
有机化学
色谱法
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:MRS Advances 作者:Jong Jin Hwang; Myoungsoo Choi; Taehwan Kim; Sungmook Jung; Sunghwa Lee; et al 出版日期:2023-01-11 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|