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  Deposition of TiN and HfO2 in a commercial 200mm remote plasma atomic layer deposition reactor 在商用200mm远程等离子体原子层沉积反应器中沉积TiN和HfO2
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：S. B. S. Heil; J. Leo van Hemmen; C. J. Hodson; Neha Singh; J.H. Klootwijk; et al 出版日期：2007-07-31 |
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