Properties of O-Doped CuI Thin Films by Chemical Vapor Deposition (CVD) at Different Deposition Flow Rate

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标题	Properties of O-Doped CuI Thin Films by Chemical Vapor Deposition (CVD) at Different Deposition Flow Rate 不同沉积流速下化学气相沉积O掺杂CuI薄膜的性能相关领域薄膜材料科学化学气相沉积兴奋剂分析化学（期刊）氧气沉积（地质）体积流量电阻率和电导率碳膜扫描电子显微镜纳米技术化学工程化学复合材料光电子学有机化学电气工程古生物学物理工程类量子力学沉积物生物
网址	https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/amr.832.444
DOI	10.4028/www.scientific.net/amr.832.444 doi
其它	期刊：Advanced materials research 作者：Nur Amalina Muhamad; Firdaus Che Mat; M. Rusop 出版日期：2013-11-01
求助人	zhanhua li 在 2024-11-07 21:18:47 发布自江苏，悬赏 30 积分
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