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Layer-Ordered Organooxotin Clusters for Extreme-Ultraviolet Photolithography
用于极紫外光刻的层状有序有机氧锡簇
相关领域
材料科学
光刻
极端紫外线
紫外线
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期刊:ACS Applied Materials & Interfaces 作者:Sihyun Woo; Ji Hye Baek; Chawon Koh; Tsunehiro Nishi; Youngmin You 出版日期:2024-07-22 |
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