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 Molecular oxidation of surface –CH3 during atomic layer deposition of Al2O3 with H2O, H2O2, and O3: A theoretical study Al_2O_3与H_2O、H_2O_2和O_3原子层沉积过程中表面CH3分子氧化的理论研究
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期刊：Applied Surface Science 作者：Seunggi Seo; Taewook Nam; Han‐Bo‐Ram Lee; Hyungjun Kim; Bonggeun Shong 出版日期：2018-11-01 |
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