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Molecular oxidation of surface –CH3 during atomic layer deposition of Al2O3 with H2O, H2O2, and O3: A theoretical study
Al_2O_3与H_2O、H_2O_2和O_3原子层沉积过程中表面CH3分子氧化的理论研究
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网址
https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2018.06.160
DOI
10.1016/j.apsusc.2018.06.160 doi
其它 期刊：Applied Surface Science
作者：Seunggi Seo; Taewook Nam; Han‐Bo‐Ram Lee; Hyungjun Kim; Bonggeun Shong
出版日期：2018-11-01
求助人
fxkzjz 在 2024-11-13 09:12:36 发布，悬赏 10 积分
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