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标题
Ultrahigh-speed etching of SiO2 with ultrahigh selectivity over Si in microwave-excited non equilibrium atmospheric pressure plasma
微波激发非平衡大气压等离子体超高速蚀刻SiO2对Si的超高选择性
相关领域
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网址
https://doi.org/10.1063/1.1775885
DOI
10.1063/1.1775885 doi
其它 期刊：Applied Physics Letters
作者：Kōji Yamakawa; Masaru Hori; Toshio Goto; Shoji Den; Toshirou Katagiri; et al
出版日期：2004-07-23
求助人
Gavin 在 2024-12-18 15:37:31 发布自福建，悬赏 10 积分
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