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 Modification of Diazoquinone-Novolac Photoresist Films by the Implantation of Antimony Ions 锑离子注入对重氮醌-酚醛光刻胶薄膜的改性
相关领域
光刻胶
材料科学
傅里叶变换红外光谱
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分析化学（期刊）
光电子学
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光学
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物理
冶金
图层（电子）
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期刊：Russian Microelectronics 作者：С. Д. Бринкевич; Д. И. Бринкевич; В. С. Просолович 出版日期：2021-01-01 |
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虚心盼夏
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@领导范儿Modification_of_DNPhotoresist_Films_ by_ the_Implantation_ of_Sb.pdf (57.45 KB)
领导范儿
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虚心盼夏
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