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标题
Effect of post-deposition annealing on electrical properties and structures of aluminum oxide passivation film on a crystalline silicon substrate
沉积后退火对晶体硅衬底上氧化铝钝化膜电学性能和结构的影响
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网址
DOI
10.7567/1347-4065/ab50ec doi
其它 期刊:Japanese Journal of Applied Physics
作者:Koji Arafune; Sho Kitano; Haruhiko Yoshida; Atsushi Ogura; Yasushi Hotta
出版日期:2019-10-24
求助人
vitamin 在 2024-11-04 13:27:01 发布自中国,悬赏 10 积分
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