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 Effect of post-deposition annealing on electrical properties and structures of aluminum oxide passivation film on a crystalline silicon substrate 沉积后退火对晶体硅衬底上氧化铝钝化膜电学性能和结构的影响
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Koji Arafune; Sho Kitano; Haruhiko Yoshida; Atsushi Ogura; Yasushi Hotta 出版日期：2019-10-24 |
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