Effect of argon addition on CH4-H2 microwave plasma: Self-consistent simulation and nanodiamond coating deposition

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标题	Effect of argon addition on CH4-H2 microwave plasma: Self-consistent simulation and nanodiamond coating deposition 氩气对CH4-H2微波等离子体的影响：自洽模拟与纳米金刚石涂层沉积相关领域纳米金刚石材料科学沉积（地质）氩涂层微波食品加热等离子体纳米技术原子物理学复合材料钻石物理核物理学生物古生物学量子力学沉积物
网址	https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2024.131165
DOI	10.1016/j.surfcoat.2024.131165 doi
其它	期刊：Surface & Coatings Technology 作者：Zhiliang Yang; Zhijian Guo; Kang An; Yuchen Liu; Yunkai Wang; et al 出版日期：2024-07-01
求助人	yangyong 在 2024-11-13 21:11:42 发布自贵州，悬赏 10 积分
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