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标题
New mechanism of plasma induced damage on CMOS image sensor: Analysis and process optimization
CMOS图像传感器等离子体损伤新机制分析与工艺优化
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网址
https://doi.org/10.1016/j.sse.2011.06.037
DOI
10.1016/j.sse.2011.06.037 doi
其它 期刊：Solid-State Electronics
作者：J.-P. Carrere; J.-P. Oddou; S. Placé; C. Richard; Daniel L. Benoit; et al
出版日期：2011-07-25
求助人
爆拳李无敌 在 2024-12-18 13:50:34 发布自吉林，悬赏 10 积分
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