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标题
Optimization and stability of CD variability in pitch 40 nm contact holes on NXE:3300
NXE：3300上40 nm间距接触孔CD变异性的优化和稳定性
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网址
https://doi.org/10.1117/12.2501797
DOI
10.1117/12.2501797 doi
其它 期刊：International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018
作者：Lieve van Look; Joost Bekaert; Andreas Frommhold; Eric Hendrickx; Gijsbert Rispens; Guido Schiffelers
出版日期：2018-10-04
求助人
雷老板 在 2025-02-04 22:04:32 发布自江苏，悬赏 20 积分
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