Precision measurement of X-axis stage mirror profile in scanning beam interference lithography by three-probe system based on bidirectional integration model

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标题	Precision measurement of X-axis stage mirror profile in scanning beam interference lithography by three-probe system based on bidirectional integration model 基于双向积分模型的扫描光束干涉光刻中X轴载物台反射镜轮廓的三测头系统精密测量相关领域光学干扰（通信）平版印刷术光路干涉光刻物理计算机科学制作电信医学频道（广播）替代医学病理
网址	https://doi.org/10.1364/oe.25.010312
DOI	10.1364/oe.25.010312 doi
其它	期刊：Optics Express 作者：Zhaowu Liu; Shan Jiang; Xiaotian Li; Ying Song; Wenhao Li; et al 出版日期：2017-04-25
求助人	伯赏凝旋在 2024-10-09 10:28:18 发布自山东，悬赏 10 积分
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