Rf‐sputtering growth of stoichiometric amorphous TeO2 thin films

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标题	Rf‐sputtering growth of stoichiometric amorphous TeO2 thin films 化学计量非晶TeO2薄膜的射频溅射生长相关领域无定形固体溅射化学计量学微晶分析化学（期刊）薄膜材料科学基质（水族馆）沉积（地质）溅射沉积化学结晶学纳米技术冶金物理化学古生物学海洋学色谱法沉积物地质学生物
网址	https://doi.org/10.1002/crat.200410479
DOI	10.1002/crat.200410479 doi
其它	期刊：Crystal Research and Technology 作者：Massimo Di Giulio; A. Zappettini; L. Nasi; Silvia Maria Pietralunga 出版日期：2005-09-26
求助人	李铭在 2024-11-05 22:29:01 发布自江苏，悬赏 10 积分
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