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 Rf‐sputtering growth of stoichiometric amorphous TeO2 thin films 化学计量非晶TeO2薄膜的射频溅射生长
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期刊：Crystal Research and Technology 作者：Massimo Di Giulio; A. Zappettini; L. Nasi; Silvia Maria Pietralunga 出版日期：2005-09-26 |
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