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Divulge of Root Cause Failure in Individual Cells of 2× nm Technology DDR4 DRAM at Operating Temperature
2 × nm技术DDR4 DRAM在工作温度下单个单元故障的根本原因揭示
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期刊:I.E.E.E. transactions on electron devices/IEEE transactions on electron devices 作者:Nosheen Shahzadi; Myungsang Park; Donghyuk Yun; Sanghyeon Baeg 出版日期:2022-05-01 |
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