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 TaN/Ta bilayer barrier characteristics and integration for 90 and 65nm nodes 90nm和65nm节点的TaN/Ta双层势垒特性和集成
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期刊：Microelectronic Engineering 作者：J.P. Jacquemin; Eric Labonne; C. Yalicheff; E. Royet; P. Vannier; et al 出版日期：2005-12-01 |
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