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 High-NA EUV lithography enabling Moore’s law in the next decade 未来十年实现摩尔定律的高NA EUV光刻
相关领域
极紫外光刻
平版印刷术
计算机科学
摩尔定律
光电子学
工程物理
物理
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操作系统
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期刊： 作者：Jan van Schoot; Kars Troost; Frank Bornebroek; Rob van Ballegoij; Sjoerd Lok; et al 出版日期：2017-10-16 |
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