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  The characteristic behavior of TMAH water solution for anisotropic etching on both Silicon substrate and SiO2 layer TMAH水溶液在硅衬底和SiO2层上各向异性腐蚀的特征行为
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期刊：Sensors and Actuators A-physical 作者：Ping‐Hei Chen; Hsin-Yah Peng; Chia-Ming Hsieh; Minking K. Chyu 出版日期：2001-09-01 |
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