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 Multiscale simulation of extreme ultraviolet nanolithography: impact of acid–base reaction on pattern roughness 极紫外纳米光刻的多尺度模拟：酸碱反应对图案粗糙度的影响
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期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Hyungwoo Lee; Sungwoo Park; Muyoung Kim; Junghwan Moon; Byunghoon Lee; et al 出版日期：2021-01-01 |
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