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 Etching and fluorination of yttrium oxide (Y2O3) irradiated with fluorine ions or radicals 用氟离子或自由基辐照氧化钇（Y2O3）的蚀刻和氟化
相关领域
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氟
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Hojun Kang; Tomoko Ito; Junghwan Um; H. Kokura; S.I. Cho; et al 出版日期：2025-01-01 |
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