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(Invited) Origins for Fermi Level Control in Metal/High-k/Si Stacks with Inserted Dielectric Layers
具有插入电介质层的金属/高k/Si堆叠中费米能级控制的(邀请)起源
相关领域
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期刊:ECS Transactions 作者:M. Eizenberg; Lior Kornblum 出版日期:2013-08-31 |
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