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标题
Interfacial-Layer Design for Hf1-xZrxO2-Based FTJ Devices: From Atom to Array
Hf1-xZrxO2基FTJ器件的界面层设计：从原子到阵列
相关领域
铁电性 正交晶系 金属 材料科学 结晶学 物理 分析化学（期刊） 光电子学 化学 电介质 晶体结构 有机化学 冶金
网址
https://doi.org/10.1109/vlsitechnologyandcir46769.2022.98304...
DOI
10.1109/vlsitechnologyandcir46769.2022.9830462 doi
其它 期刊：2022 IEEE Symposium on VLSI Technology and Circuits (VLSI Technology and Circuits)
作者：Hsien-Tsung Chiang; Jia Wang; K. -H. Lin; Chih‐Hung Nien; Jun Wu; et al
出版日期：2022-06-12
求助人
spark810 在 2024-11-08 02:44:55 发布自美国，悬赏 10 积分
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