| 标题 |
 Growth mechanisms study of microcrystalline silicon deposited by SiH4/H2 plasma using tailored voltage waveforms 用定制电压波形研究SiH4/H2等离子体沉积微晶硅的生长机理
相关领域
微晶
离子
硅
波形
材料科学
等离子体
无定形固体
分析化学（期刊）
原子物理学
非晶硅
电压
光电子学
分子物理学
晶体硅
化学
物理
结晶学
有机化学
量子力学
色谱法
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of Applied Physics 作者：Bastien Bruneau; J. Wang; Jean-Christophe Dornstetter; Erik Johnson 出版日期：2014-02-24 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
不配.
坚强的广山
柳叶刀小猪
劲秉
一一
lalala
杳鸢
彭于彦祖
毛豆
嗯哼
paparazzi221
个性的紫菜
子车茗
tuanheqi
不懈奋进
爱静静
HCLonely
一只饺子
pluto
于芋菊
皖公网安备34019202002308
