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标题
Electronic and Chemical Properties of Nickel Oxide Thin Films and the Intrinsic Defects Compensation Mechanism
氧化镍薄膜的电子和化学性质及本征缺陷补偿机制
相关领域
非阻塞I/O 镍 氧化镍 X射线光电子能谱 材料科学 薄膜 晶界 微晶 溅射 工作职能 化学工程 纳米技术 冶金 复合材料 微观结构 金属 化学 工程类 生物化学 催化作用
网址
https://doi.org/10.1021/acsaelm.2c00230
DOI
10.1021/acsaelm.2c00230 doi
其它 期刊：ACS applied electronic materials
作者：Raphaël Poulain; Gunnar Lumbeeck; Jonas Hunka; Joris Proost; Henri Savolainen; et al
出版日期：2022-06-07
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炫哥IRIS 在 2025-03-01 14:11:31 发布自中国台湾，悬赏 10 积分
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