Deposition and properties of sputtered phosphorus doped amorphous silicon films for passivating contacts

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标题	Deposition and properties of sputtered phosphorus doped amorphous silicon films for passivating contacts 用于钝化触点的溅射磷掺杂非晶硅薄膜的沉积与性能相关领域材料科学兴奋剂硅沉积（地质）非晶硅无定形固体光电子学磷冶金晶体硅化学结晶学地质学沉积物古生物学
网址	https://doi.org/10.1063/5.0141222
DOI	10.1063/5.0141222 doi
其它	期刊：AIP conference proceedings 作者：Jens Baumann; E. Schneiderlöchner; Jana‐Isabelle Polzin; Frank Feldmann; Martin Bivour; et al 出版日期：2023-01-01
求助人	于鱼在 2024-11-14 11:47:09 发布自美国，悬赏 10 积分
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