Mask structure optimization for beyond EUV lithography

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标题	Mask structure optimization for beyond EUV lithography 超EUV光刻掩模结构优化相关领域极紫外光刻平版印刷术下一代光刻光学 X射线光刻航空影像光刻粒子群优化材料科学极端紫外线计算光刻反射（计算机编程）计算机科学光电子学抵抗物理纳米技术算法图像（数学）人工智能电子束光刻激光器程序设计语言图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1364/ol.523596
DOI	10.1364/ol.523596 doi
其它	期刊：Optics Letters 作者：Ziqi Li; Lisong Dong; Xu Ma; Yayi Wei 出版日期：2024-05-09
求助人	daoketuo 在 2024-10-05 22:22:35 发布自甘肃，悬赏 10 积分
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