Surface passivation of crystalline silicon by plasma-enhanced chemical vapor deposition double layers of silicon-rich silicon oxynitride and silicon nitride

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标题	Surface passivation of crystalline silicon by plasma-enhanced chemical vapor deposition double layers of silicon-rich silicon oxynitride and silicon nitride 等离子体增强化学气相沉积法钝化晶体硅富硅氮化硅和氮化硅双层相关领域钝化氮化硅氮化硅材料科学硅等离子体增强化学气相沉积化学气相沉积光电子学非晶硅晶体硅远程等离子体纳米晶硅图层（电子）纳米技术
网址	https://doi.org/10.1063/1.3544421
DOI	10.1063/1.3544421 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：J. Seiffe; L. Gautero; Marc Hofmann; J. Rentsch; R. Preu; et al 出版日期：2011-02-01
求助人	doudou 在 2024-12-11 14:41:35 发布自陕西，悬赏 10 积分
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