Argon and oxygen pressure influence on the properties of NiO films deposited by magnetron sputtering in layer-by-layer growth regime

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标题	Argon and oxygen pressure influence on the properties of NiO films deposited by magnetron sputtering in layer-by-layer growth regime 氩压和氧压对磁控溅射逐层生长NiO薄膜性能的影响相关领域图层（电子）非阻塞I/O 溅射沉积材料科学氩溅射氧气薄膜复合材料纳米技术化学生物化学有机化学催化作用
网址	https://doi.org/10.1016/j.physb.2024.415740
DOI	10.1016/j.physb.2024.415740 doi
其它	期刊：Physica B-condensed Matter 作者：V. A. Karpyna; А. І. Євтушенко; А. И. Быков; O. Kolomys; V. V. Strelchuk; et al 出版日期：2024-04-01
求助人	啊哈哈哈哈在 2025-02-12 19:34:43 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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