Understanding Surface Treatment and ALD AlOx Thickness Induced Surface Passivation Quality of c-Si Cz Wafers - 科研通

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标题	Understanding Surface Treatment and ALD AlOx Thickness Induced Surface Passivation Quality of c-Si Cz Wafers c-Si Cz晶片表面处理与ALD AlOx厚度诱导表面钝化质量的认识相关领域钝化 X射线光电子能谱薄脆饼硅材料科学傅里叶变换红外光谱分析化学（期刊）氧化物图层（电子）纳米技术物理光电子学化学有机化学光学核磁共振冶金
网址	https://doi.org/10.1109/jphotov.2017.2717040
DOI	10.1109/jphotov.2017.2717040 doi
其它	期刊：IEEE Journal of Photovoltaics 作者：Gurleen Kaur; Neeraj Dwivedi; Xin Zheng; Baochen Liao; Zhi Peng Ling; et al 出版日期：2017-09-01
求助人	名天在 2025-02-26 13:10:30 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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