| 标题 |
 New Chemically Amplified Positive Photoresist with Phenolic Resin Modified by GMA and BOC Protection GMA和BOC保护改性酚醛树脂的新型化学放大正性光致抗蚀剂
相关领域
光刻胶
抵抗
傅里叶变换红外光谱
甲基丙烯酸缩水甘油酯
凝胶渗透色谱法
苯酚
紫外线
甲基丙烯酸酯
试剂
材料科学
化学
核化学
高分子化学
化学工程
聚合物
有机化学
聚合
光电子学
图层（电子）
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Polymers 作者：Junjun Liu; Wenbing Kang 出版日期：2023-03-23 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
个性的紫菜
pcr163
苏卿
彭于彦祖
oceanao
HEIKU
竹筏过海
Singularity
寻道图强
Yziii
嗯哼
shinysparrow
不配.
梓泽丘墟
xjcy
西红柿炒番茄
yufanhui
哎嘿
Renee
去火星种一颗芋头
皖公网安备34019202002308
