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 12-inch growth of uniform MoS2 monolayer for integrated circuit manufacture 用于集成电路制造的12英寸均匀MoS2单层生长
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期刊：Nature Materials 作者：Yin Xia; Xinyu Chen; Jinchen Wei; Shuiyuan Wang; Shiyou Chen; et al 出版日期：2023-09-28 |
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