标题 |
![]() 磨粒几何形状和磨损条件对单磨碳化硅材料去除机理的影响
相关领域
材料科学
研磨
碳化硅
钻石
GSM演进的增强数据速率
脆性
金刚石研磨
复合材料
半径
偏转(物理)
碎屑形成
碳化物
冶金
刀具磨损
砂轮
机械加工
光学
物理
电信
计算机科学
计算机安全
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Ceramics International 作者:Jianbo Dai; Honghua Su; Hao Hu; Tengfei Yu; Wenbo Zhou; et al 出版日期:2017-06-07 |
求助人 | |
下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|