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 Actinic patterned mask imaging using extreme ultraviolet ptychography microscope with high harmonic generation source 使用具有高次谐波产生源的极紫外光谱显微镜进行光化图案掩模成像
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期刊：Applied Physics Express 作者：Young Woong Kim; Dong‐Gi Lee; Seung-Chan Moon; Chang Mo Ku; Joong Hwee Cho; et al 出版日期：2022-06-17 |
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