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标题
Line-edge roughness in sub-0.18-μm resist patterns
0.18 μ m以下抗蚀剂图案的线边缘粗糙度
相关领域
抵抗 材料科学 表面光洁度 表面粗糙度 蚀刻（微加工） 等离子体刻蚀 图层（电子） GSM演进的增强数据速率 硅 光学 航空影像 光电子学 纳米技术 复合材料 计算机科学 物理 电信 图像（数学） 人工智能
网址
https://doi.org/10.1117/12.312395
DOI
10.1117/12.312395 doi
其它 期刊：Proceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering/Proceedings of SPIE
作者：S. C. Palmateer; Susan G. Cann; Jane E. Curtin; Scott P. Doran; Lynn M. Eriksen; et al
出版日期：1998-06-29
求助人
lll6xz 在 2024-06-06 09:31:52 发布自江苏，悬赏 20 积分
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