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Si-based epitaxy processes for 14 and 10 nm CMOS technologies : Morphology and structure
14和10 nm CMOS技术的硅基外延工艺：形貌和结构
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期刊：HAL (Le Centre pour la Communication Scientifique Directe) 作者：Victorien Paredes-Saez 出版日期：2017-05-12 |
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