标题 |
Research on a High-Threshold-Voltage AlGaN/GaN HEMT with P-GaN Cap and Recessed Gate in Combination with Graded AlGaN Barrier Layer
高阈值电压AlGaN/GaN HEMT的P-GaN盖和凹栅结合梯度AlGaN势垒层的研究
相关领域
高电子迁移率晶体管
跨导
光电子学
阻挡层
材料科学
图层(电子)
阈值电压
饱和电流
击穿电压
饱和(图论)
氮化镓
电压
电气工程
晶体管
纳米技术
工程类
数学
组合数学
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Journal of Electronic Materials 作者:Zhichao Chen; Li-E Cai; Kai Niu; Chao-Zhi Xu; Haifeng Lin; et al 出版日期:2024-03-05 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|