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Low-Hydrogen-Content Silicon Nitride Deposited at Room Temperature by Inductively Coupled Plasma Deposition
室温下电感耦合等离子体沉积低氢氮化硅
相关领域
X射线光电子能谱
感应耦合等离子体
分析化学(期刊)
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期刊:Japanese Journal of Applied Physics 作者:Haiping Zhou; K. Elgaid; C. D. W. Wilkinson; Iain Thayne 出版日期:2006-10-01 |
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