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标题
Low-Hydrogen-Content Silicon Nitride Deposited at Room Temperature by Inductively Coupled Plasma Deposition
室温下电感耦合等离子体沉积低氢氮化硅
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网址
https://doi.org/10.1143/jjap.45.8388
DOI
10.1143/jjap.45.8388 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Haiping Zhou; K. Elgaid; C. D. W. Wilkinson; Iain Thayne
出版日期：2006-10-01
求助人
ddg 在 2024-11-04 14:31:18 发布自江苏，悬赏 10 积分
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