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 Molecular dynamics study of SiO2 nanohole etching by fluorocarbon ions 碳氟离子刻蚀SiO2纳米孔的分子动力学研究
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期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Charisse Marie D. Cagomoc; Michiro Isobe; Satoshi Hamaguchi 出版日期：2023-02-07 |
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StevenZhao
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