标题 |
Doping-Optimized Back-illuminated Single-Photon Avalanche Diode in Stacked 40 nm CIS Technology Achieving 60% PDP at 905 nm
掺杂优化的40nm叠层CIS单光子雪崩二极管在905 nm实现60%PDP
相关领域
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光子
光电子学
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材料科学
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雪崩二极管
光学
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雪崩光电二极管
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网址 | |
DOI |
10.23919/vlsitechnologyandcir57934.2023.10185229
doi
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其它 |
期刊: 作者:Eunsung Park; Won-Yong Ha; Doyoon Eom; Dae‐Hwan Ahn; Hee Ju An; et al 出版日期:2023-06-11 |
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