| 标题 |
 Simulation of photoresist defect transfer through subsequent patterning processes 相关领域
材料科学
光刻胶
抵抗
平版印刷术
光刻
光电子学
过程（计算）
多重图案
蚀刻（微加工）
基质（水族馆）
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| 网址 | |
| DOI |
10.1117/12.2551731
doi
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| 其它 |
期刊：Advanced Etch Technology for Nanopatterning IX 作者：Dominik Metzler; Mohamed Oulmane; Sagarika Mukesh; Phil Stopford; Karthik Yogendra; Lawrence Melvin 出版日期：2020-03-24 |
| 求助人 |
研友_84mPRL
在
2020-09-16 09:55:44 发布，悬赏 10 积分
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